PS-150は、半導体チップのワイヤボンディング活性化、バイオ・医療系デバイスのドライ洗浄・表面改質などに最適な卓上型プラズマ表面処理装置です。CCPプラズマ方式を採用。最大３系統のガスが使用可能で、アルゴンエッチングや酸素アッシングなどが行えます。10.1インチタッチスクリーンパネルと、オート運転やレシピの保存も可能、マスフローコントローラ機能によりガス流量や圧力なども細かく設定いただけるバランスの取れたモデルです。
- 最大3系統、酸素、アルゴン、CF⁴ガスなどに対応した平行平板型タイプ
- チャンバ内寸法：W150ｘ200ｘ140mm（角型）
- 電源出力最大200W、マスフローコントローラ標準装備
装置仕様
 |
|
| 製品名 | PS-150 |
| 電極構造 | 平行平板 |
| 最大出力 | 200W |
| 発振周波数 | 10～50kHz |
| 操作パネル | 10.1" タッチスクリーンパネル |
| チャンバー寸法 | W150 × D200 × H140mm |
| チャンバー材質 | アルミ製 |
| ガス流量制御 | マスフローコントローラ 最大3チャンネル |
| 反応ガス | 酸素、アルゴン、窒素、CF4、SF6 他 |
| ガス導入口 | チューブ径6mm スウェージロック |
| 電源 | 100 - 230V AC、50/60Hz |
| 装置寸法 | W390 × D555 × H610mm |
| 装置重量 | 50kg |
※仕様は予告なく変更される場合があります。
